氧化鎂在線高剪切研磨分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室*小型設(shè)備：

研磨分散機(jī)由1-3個(gè)工作腔組成，在馬達(dá)的高速驅(qū)動(dòng)下，物料在轉(zhuǎn)子與定子之間的狹窄間隙中高速運(yùn)動(dòng)，形成紊流，物料受到更強(qiáng)液力剪切、離心擠壓、高速切割、撞擊和研磨等綜合作用，從而達(dá)到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性質(zhì)和工作腔的數(shù)量以及控制物料在工作腔中停留的時(shí)間決定了粒徑分布范圍及均化、細(xì)化的效果和產(chǎn)量的大小。

GMSD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMSD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

SID膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較：

一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：

SID膠體磨，可選擇德國(guó)機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

國(guó)內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1

通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

 二、膠體磨頭和間距：

SID膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，速模塊，膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

間距可調(diào)，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

國(guó)內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差

三、機(jī)械密封：

SID膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)

國(guó)內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

四、清洗：

SID膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動(dòng)，易于維護(hù)，可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動(dòng)原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機(jī)器設(shè)計(jì)立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡(jiǎn)便

國(guó)內(nèi)膠體磨，臥式或立式（馬達(dá)一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜，

通常情況，需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗

膠體磨內(nèi)部結(jié)構(gòu)及分析：

粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙，能有效地達(dá)到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

 研磨分散機(jī)du有的優(yōu)點(diǎn)

◆ 處理量大，適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)；
◆ 粒徑分布范圍窄，勻度高；
◆ 省時(shí)、高效、節(jié)約能源；
◆ 精密鑄造的整體式機(jī)架和經(jīng)精密動(dòng)平衡測(cè)試的每道轉(zhuǎn)子，確保整機(jī)運(yùn)行噪音低，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)；
◆ 消除批次間生產(chǎn)的品質(zhì)差異；
◆ 物料100%通過粉碎分散剪切；
◆ 具有短距離、低揚(yáng)程輸送功能；
◆ 使用簡(jiǎn)單，維修方便；
◆ 可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制；
◆ 集裝式機(jī)械密封，保證物料無泄漏；
◆ 單機(jī)處理量從1～120m3/h。

氧化鎂在線高剪切研磨分散機(jī)，醫(yī)藥用氧化鎂研磨分散機(jī)，氧化鎂濕法研磨